2025年模拟电路学习笔记1

模拟电路学习笔记1常用半导体器件 三极管 IEN 发射结 Je 正偏 所以 Je 两侧的多子的扩散占优势 因而发射区的电子源源不断的超过 Je 注入到基区 形成电子注入电流 IEN IEP 基区的空穴也向发射区注入 形成空穴注入电流 IEP IBN 基区中与电子复合的空穴由基极电源提供 形成基区复合电流 IBN 基极电流的主要部分 ICN 由于集电结 Jc 反偏 形成了较强的电场 所以

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常用半导体器件

三极管

IEN:发射结Je正偏,所以Je两侧的多子的扩散占优势,因而发射区的电子源源不断的超过Je注入到基区,形成电子注入电流IEN。

IEP:基区的空穴也向发射区注入,形成空穴注入电流IEP


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IBN:基区中与电子复合的空穴由基极电源提供,形成基区复合电流IBN(基极电流的主要部分)

ICN:由于集电结Jc反偏,形成了较强的电场,所以,扩散到Jc边沿的电子在该电场作用下漂移到集电区,形成集电区的收集电流ICN(构成集电极电流Ic的主要部分)。

ICBO:集电区和基区的少子在Jc的反偏压的作用下,向对方漂移形成Jc的反向饱和电流,并流过集电极和基极支路,构成IB和IC的另一部分电流。

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